【RAYCER】商标详情
- RAYCER
- 73031084
- 已注册
- 普通商标
- 2023-07-24
0104 0104-光致抗蚀剂,
0104-光触媒,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用碳化硅,
0104-氧化剂,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
0104-蚀刻媒染剂（酸）
0104-光致抗蚀剂;0104-光触媒;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用碳化硅;0104-氧化剂;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质;0104-蚀刻媒染剂（酸） - 1860
- 2023-10-20
- 1872
- 2024-01-21
- 2024-01-21-2034-01-20
- 烟台睿瓷新材料技术有限公司
- 山东省烟台市************
- 北京集佳知识产权代理有限公司
2024-02-26 商标注册申请 | 注册证发文
2023-08-08 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-07-24 商标注册申请 | 申请收文
- RAYCER
- 73031084
- 已注册
- 普通商标
- 2023-07-24
0104 0104-光致抗蚀剂,
0104-光触媒,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用碳化硅,
0104-氧化剂,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
0104-蚀刻媒染剂（酸）
0104-光致抗蚀剂;0104-光触媒;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104- 半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用碳化硅;0104-氧化剂;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质;0104-蚀刻媒染剂（酸） - 1860
- 2023-10-20
- 1872
- 2024-01-21
- 2024-01-21-2034-01-20
- 烟台睿瓷新材料技术有限公司
- 山东省烟台市************
- 北京集佳知识产权代理有限公司
2024-02-26 商标注册申请 | 注册证发文
2023-08-08 商 标注册申请 | 受理通知书发文
2023-07-24 商标注册申请 | 申请收文
