【MIRRA】商标详情
- MIRRA
- 1091627
- 已注册
- 普通商标
- 1996-05-13
3706 -修理和维护半导体晶片处理设备,
-即:对外延感应器,
-等离子蚀刻器,
3706-化学机械抛光器及其零部件及用于上述设备的计算机程序的修理和维护,
3706-化学蒸汽沉淀感应器,
3706-物理蒸汽沉淀感应器,
3706-离子注入器及其支架
-修理和维护半导体晶片处理设备;-即:对外延感应器;-等离子蚀刻器;3706-化学机械抛光器及其零部件及用于上述设备的计算机程序的修理和维护;3706-化学蒸汽沉淀感应器;3706-物理蒸汽沉淀感应器;3706-离子注入器及其支架 - 593
- 1997-05-28
- 605
- 1997-08-28
- 2017-08-28-2027-08-27
- 应用材料公司
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2024-06-12 变更商标代理人 | 核准通知打印发送
2024-05-15 变更商标代理人 | 申请收文
2017-08-25 商标续展 | 核准通知打印发送
2017-06-02 商标续展 | 打印受理通知书
2017-06-02 商标续展 | 等待打印受理通知书
2017-04-19 商标续展 | 申请收文
2016-06-29 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2015-10-29 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印受理通知书
2015-10-29 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 等待打印受理通知书
2015-09-23 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2009-07-14 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印核准变更证明
2009-02-17 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印受理通知
2009-02-01 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2007-10-30 商标续展 | 打印核准续展注册商标证明
2007-05-28 商标续展 | 申请收文
1996-05-13 商标注册申请 | 申请收文
- MIRRA
- 1091627
- 已注册
- 普通商标
- 1996-05-13
3706 -修理和维护半导体晶片处理设备,
-即:对外延感应器,
-等离子蚀刻器,
3706-化学机械抛光器及其零部件及用于上述设备的计算机程序的修理和维护,
3706-化学蒸汽沉淀感应器,
3706-物理蒸汽沉淀感应器,
3706-离子注入器及其支架
-修理和维护半导体晶片处理设备;-即:对外延感应器;-等离子蚀刻器;3706-化学机械抛光器及其零部件及用于上述设备的计 算机程序的修理和维护;3706-化学蒸汽沉淀感应器;3706-物理蒸汽沉淀感应器;3706-离子注入器及其支架 - 593
- 1997-05-28
- 605
- 1997-08-28
- 2017-08-28-2027-08-27
- 应用材料公司
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
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2016-06-29 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2015-10-29 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印受理通知书
2015-10-29 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 等待打印受理通知书
2015-09-23 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2009-07-14 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印核准变更证明
2009-02-17 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印受理通知
2009-02-01 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2007-10-30 商标续展 | 打印核准续展注册商标证明
2007-05-28 商标续展 | 申请收文
1996-05-13 商标注册申请 | 申请收文
