【易美太】商标详情
- 易美太
- 62083455
- 已注册
- 普通商标
- 2022-01-11
0102 , 0104 , 0107 0102-表面活性化学剂,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用抗静电制剂,
0107-摄影用化学制剂
0102-表面活性化学剂;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用抗静电制剂;0107-摄影用化学制剂 - 1788
- 2022-04-20
- 1800
- 2022-07-21
- 2022-07-21-2032-07-20
- 株式会社科泰姆
- 京畿道坡州市************
- 北京德崇智捷知识产权代理有限公司
2022-08-14 商标注册申请 | 注册证发文
2022-01-30 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-01-11 商标注册申请 | 申请收文
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- 62083455
- 已注册
- 普通商标
- 2022-01-11
0102 , 0104 , 0107 0102-表面活性化学剂,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用抗静电制剂,
0107-摄影用化学制剂
0102-表面活性化学剂;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用抗静电制剂;0107-摄影用化学制剂 - 1788
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2022-01-30 商标注册申请 | 受理通知书发文
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