【TOSEIY】商标详情
- TOSEIY
- 54143322
- 已注册
- 普通商标
- 2021-03-09
0101 , 0104 , 0108 , 0115 0101-石墨烯,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅,
0108-制模塑料用未加工合成树脂,
0108-工业用未加工人造树脂,
0108-工业用未加工塑料,
0108-未加工塑料,
0108-模塑料,
0115-塑料粘合剂（非文具、非家用）,
0115-工业用合成树脂制黏合剂
0101-石墨烯;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅;0108-制模塑料用未加工合成树脂;0108-工业用未加工人造树脂;0108-工业用未加工塑料;0108-未加工塑料;0108-模塑料;0115-塑料粘合剂（非文具、非家用）;0115-工业用合成树脂制黏合剂 - 1750
- 2021-07-06
- 1762
- 2021-10-07
- 2021-10-07-2031-10-06
- 东燊新材料科技（深圳）有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳海悦知识产权服务有限公司
2021-11-25 商标注册申请 | 注册证发文
2021-03-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-03-09 商标注册申请 | 申请收文
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- 普通商标
- 2021-03-09
0101 , 0104 , 0108 , 0115 0101-石墨烯,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅,
0108-制模塑料用未加工合成树脂,
0108-工业用未加工人造树脂,
0108-工业用未加工塑料,
0108-未加工塑料,
0108-模塑料,
0115-塑料粘合剂（非文具、非家用）,
0115-工业用合成树脂制黏合剂
0101-石墨烯;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅;0108-制模塑料用未加工合成树脂;0108-工业用未加工人造树脂;0108-工业用未加工塑料;0108-未加工塑料;0108-模塑料;0115-塑料粘合剂（非文具、非家用）;0115-工业用合成树脂制黏合剂 - 1750
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