【ELG】商标详情
- ELG
- 5722343
- 已销亡
- 普通商标
- 2006-11-14
0102 , 0104 0102-工业用氢氧化铵,
0102-工业用过氧化氢,
0104-化合物半导体浸蚀剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用正光刻胶显影剂,
0104-用于清洁半导体和集成电路的去除侧壁聚合物清洁剂,
0104-用于清洁半导体和集成电路的有机碱性清洁剂,
0104-用于清洁半导体和集成电路的水碱去除剂,
0104-用于清洁半导体和集成电路的聚酰胺浸蚀剂,
0104-电子设备用溶剂
0102-工业用氢氧化铵;0102-工业用过氧化氢;0104-化合物半导体浸蚀剂;0104-工业用化学品;0104-工业用 正光刻胶显影剂;0104-用于清洁半导体和集成电路的去除侧壁聚合物清洁剂;0104-用于清洁半导体和集成电路的有机碱性清洁剂;0104-用于清洁半导体和集成电路的水碱去除剂;0104-用于清洁半导体和集成电路的聚酰胺浸蚀剂;0104-电子设备用溶剂 - 1181
- 2009-08-27
- 1193
- 2009-11-28
- 2009-11-28-2019-11-27
- 三菱瓦斯化学株式会社
- 东京都东京************
- 北京再言商标代理有限公司
2022-11-28 期满未续展注销商标 | 排版未续展注销公告
2022-10-25 期满未续展注销商标 | 申请收文
2009-12-16 商标注册申请 | 商标已注册
2009-12-16 商标注册申请 | 打印注册证
2009-06-16 商标注册申请 | 注册申请初步审定
2007-05-14 商标注册申请 | 打印受理通知
2006-11-14 商标注册申请 | 商标注册申请中
2006-11-14 商标注册申请 | 申请收文
- ELG
- 5722343
- 已销亡
- 普通商标
- 2006-11-14
0102 , 0104 0102-工业用氢氧化铵,
0102-工业用过氧化氢,
0104-化合物半导体浸蚀剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用正光刻胶显影剂,
0104-用于清洁半导体和集成电路的去除侧壁聚合物清洁剂,
0104-用于清洁半导体和集成电路的有机碱性清洁剂,
0104-用于清 洁半导体和集成电路的水碱去除剂,
0104-用于清洁半导体和集成电路的聚酰胺浸蚀剂,
0104-电子设备用溶剂
0102-工业用氢氧化铵;0102-工业用过氧化氢;0104-化合物半导体浸蚀剂;0104-工业用化学品;0104-工业用正光刻胶显影剂;0104-用于清洁半导体和集成电路的去除侧壁聚合物清洁剂;0104-用于清洁半导体和集成电路的有机碱性清洁剂;0104-用于清洁半导体和集成电路的水碱去除剂;0104-用于清洁半导体和集成电路的聚酰胺浸蚀剂;0104-电子设备用溶剂 - 1181
- 2009-08-27
- 1193
- 2009-11-28
- 2009-11-28-2019-11-27
- 三菱瓦斯化学株式会社
- 东京都东京************
- 北京再言商标代理有限公司
2022-11-28 期满未续展注销商标 | 排版未续展注销公告
2022-10-25 期满未续展注销商标 | 申请收文
2009-12-16 商标注册申请 | 商标已注册
2009-12-16 商标注册申请 | 打印注册证
2009-06-16 商标注册申请 | 注册申请初步审定
2007-05-14 商标注册申请 | 打印受理通知
2006-11-14 商标注册申请 | 商标注册申请中
2006-11-14 商标注册申请 | 申请收文
