【图形】商标详情
- 图形
- 92305586
- 已初审
- 普通商标
- 2026-06-09
0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业用氧,
0101-氮,
0101-结晶硅,
0102-砷化镓,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0115-工业用导电黏合剂,
0115-工业用明胶
0101-半导体用硅;0101-工业用氧;0101-氮;0101-结晶硅;0102-砷化镓;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0115-工业用导电黏合剂;0115-工业用明胶 - 1998
- 2026-09-06
- 元昇智芯（西安）科技有限公司
- 陕西省西安市高新区科技二路66号佳贝大厦521室
- 陕西元知界知识产权服务有限公司
2026-09-08 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2026-09-06 商标注册申请 | 排版初审公告
2026-07-01 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-06-09 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2026-09-06 第1998期 查看公告
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0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业用氧,
0101-氮,
0101-结晶硅,
0102-砷化镓,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0115-工业用导电黏合剂,
0115-工业用明胶
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- 陕西元知界知识产权服务有限公司
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