【KRYOSWEV】商标详情
- KRYOSWEV
- 92148086
- 已初审
- 普通商标
- 2026-06-01
0102 , 0104 , 0106 0102-氢氟酸,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原 料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-耐酸化学物质,
0104-腐蚀剂,
0104-蚀刻媒染剂（酸）,
0104-金属腐蚀剂,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）
0102-氢氟酸;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用清洁剂;0104-耐酸化学物质;0104-腐蚀剂;0104-蚀刻媒染剂（酸）;0104-金属腐蚀剂;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用） - 1995
- 2026-08-13
- 鼎程（厦门）半导体科技有限公司
- 福建省厦门市************
- 厦门律嘉知识产权代理事务所（普通合伙）
2026-08-17 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2026-08-13 商标注册申请 | 排版初审公告
2026-06-30 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-06-01 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2026-08-13 第1995期 查看公告
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- 已初审
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0102 , 0104 , 0106 0102-氢氟酸,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-耐酸化学物质,
0104-腐蚀剂,
0104-蚀刻媒染剂（酸）,
0104-金属腐蚀剂,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）
0102-氢氟酸;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用清洁剂;0104-耐酸化学物质;0104-腐蚀剂;0104-蚀刻媒染剂（酸）;0104-金属腐蚀剂;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用） - 1995
- 2026-08-13
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2026-06-30 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-06-01 商标注册申请 | 申请收文
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