【ASCEND】商标详情
- ASCEND
- 3379455
- 已销亡
- 普通商标
- 2002-11-22
0104 -在电子设备制造中,
-对用于各构件的电子材料进行化学的、机械的平面化处理之包括氧化剂、载液和可选研磨剂的化学制剂,
0104-可选研磨剂(和研磨剂配用的辅助液)
-在电子设备制造中;-对用于各构件的电子材料进行化学的、机械的平面化处理之包括氧化剂、载液和可选研磨剂的化学制剂;0104-可选研磨剂(和研磨剂配用的辅助液) - 933
- 2004-06-28
- 945
- 2004-09-28
- 2004-09-28-2014-09-27
- 杜邦气体产品纳米材料公司
- 加利福尼亚卡尔斯巴德************
- 中国专利代理(香港)有限公司
2016-10-08 期满未续展注销商标 | 排版未续展注销公告
2004-10-20 商标注册申请 | 打印注册证
2003-03-17 商标注册申请 | 等待补正回文
2003-03-17 商标注册申请 | 补正收文
2002-12-13 商标注册申请 | 等待打印受理通知
2002-11-22 商标注册申请 | 申请收文
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- 已销亡
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- 2002-11-22
0104 -在电子设备制造中,
-对用于各构件的电子材料进行化学的、机械的平面化处理之包括氧化剂、载液和可选研磨剂的化学制剂,
0104-可选研磨剂(和研磨剂配用的辅助液)
-在电子设备制造中;-对用于各构件的电子材料进行化学的、机械的平面化处理之包括氧化剂、载液和可选研磨剂的化学制剂;0104-可选研磨剂(和研磨剂配用的辅助液) - 933
- 2004-06-28
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- 2004-09-28-2014-09-27
- 杜邦气体产品纳米材料公司
- 加利福尼亚卡尔斯巴德************
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