【GASEM】商标详情
- GASEM
- 61490788
- 已注册
- 普通商标
- 2021-12-17
0102 , 0104 , 0108 , 0115 0102-有机金属化合物,
0102-硫酸铜,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-工业用化学品,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0108-聚酰亚胺,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0102-有机金属化合物;0102-硫酸铜;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-工业用化学品;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0108-聚酰亚胺;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 1783
- 2022-03-13
- 1795
- 2022-06-14
- 2022-06-14-2032-06-13
- 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 江苏省苏州市************
- 超凡知识产权服务股份有限公司
2022-07-08 商标注册申请 | 注册证发文
2022-01-08 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-12-17 商标注册申请 | 申请收文
- GASEM
- 61490788
- 已注册
- 普通商标
- 2021-12-17
0102 , 0104 , 0108 , 0115 0102-有机金属化合物,
0102-硫酸铜,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-工业用化学品,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0108-聚酰亚胺,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0102-有机金属化合物;0102-硫酸铜;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-工业用化学品;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0108-聚酰亚胺;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 1783
- 2022-03-13
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- 2022-06-14
- 2022-06-14-2032-06-13
- 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 江苏省苏州市************
- 超凡知识产权服务股份有限公司
2022-07-08 商标注册申请 | 注册证发文
2022-01-08 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-12-17 商标注册申请 | 申请收文
