【NEXT NINE】商标详情
- NEXT NINE
- G1484261
- 待审中
- 普通商标
- 2019-08-22
0101 , 0102 , 0103 , 0104 0101-工业用化学品,
0102-工业用化学品,
0103-工业用化学品,
0104-工业用化学品,
0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料
0101-工业用化学品;0102-工业用化学品;0103-工业用化学品;0104-工业用化学品;0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料 - 2019-06-26-2029-06-26
- Numat Technologies， Inc.
- 伊利诺伊芝加哥************
- 国际局
2019-11-23 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2019-11-23 领土延伸 | 驳回电子发文
2019-08-22 领土延伸 | 申请收文
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- G1484261
- 待审中
- 普通商标
- 2019-08-22
0101 , 0102 , 0103 , 0104 0101-工业用化学品,
0102-工业用化学品,
0103-工业用化学品,
0104-工业用化学品,
0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料
0101-工业用化学品;0102-工业用化学品;0103-工业用化学品;0104-工业用化学品;0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料 - 2019-06-26-2029-06-26
- Numat Technologies， Inc.
- 伊利诺伊芝加哥************
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2019-11-23 领土延伸 | 等待驳回电子发文
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