【SQ】商标详情
- SQ
- 77435059
- 已注册
- 普通商标
- 2024-03-20
0101 , 0104 , 0108 0101-一氧化二氮,
0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用二氧化碳,
0101-氢,
0101-结晶硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0108-未加工有机硅树脂,
0108-硅氧烷
0101-一氧化二氮;0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业用二氧化碳;0101-氢;0101-结晶硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0108-未加工有机硅树脂;0108-硅氧烷 - 1892
- 2024-06-20
- 1904
- 2024-09-21
- 2024-09-21-2034-09-20
- 湖北迅盛半导体材料有限公司
- 湖北省宜昌市************
- 温州蓝天知识产权代理有限公司
2024-10-18 商标注册申请 | 注册证发文
2024-04-11 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-03-20 商标注册申请 | 申请收文
- SQ
- 77435059
- 已注册
- 普通商标
- 2024-03-20
0101 , 0104 , 0108 0101-一氧化二氮,
0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用二氧化碳,
0101-氢,
0101-结晶硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0108-未加工有机硅树脂,
0108-硅氧烷
0101-一氧化二氮;0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业用二氧化碳;0101-氢;0101-结晶硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0108-未加工有机硅树脂;0108-硅氧烷 - 1892
- 2024-06-20
- 1904
- 2024-09-21
- 2024-09-21-2034-09-20
- 湖北迅盛半导体材料有限公司
- 湖北省宜昌市************
- 温州蓝天知识产权代理有限公司
2024-10-18 商标注册申请 | 注册证发文
2024-04-11 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-03-20 商标注册申请 | 申请收文
