【CLEAN ETCH】商标详情
- CLEAN ETCH
- 12153832
- 已驳回
- 普通商标
- 2013-02-05
0104 0104-光刻胶剥离剂(用于去除印刷电路板制造过程中用的光刻胶),
0104-光刻胶显影剂(用于去除印刷电路板制造过程中用的光刻胶),
0104-工业用化学品,
0104-金属表面处理剂(化学制剂),
0104-金属表面磨平用磨光剂(化学制剂)
0104-光刻胶剥离剂(用于去除印刷电路板制造过程中用的光刻胶);0104-光刻胶显影剂(用于去除印刷电 路板制造过程中用的光刻胶);0104-工业用化学品;0104-金属表面处理剂(化学制剂);0104-金属表面磨平用磨光剂(化学制剂) - 三菱瓦斯化学株式会社
- 东京都东京************
- 北京旭知行知识产权代理有限公司
2015-03-05 商标注册申请 | 驳回复审评审实审裁文等待实审裁文发文
2015-03-05 驳回复审 | 实审裁文发文
2014-03-11 驳回复审 | 打印受理通知
2014-01-03 商标注册申请 | 收到驳回复审申请或补充材料,待审
2014-01-03 商标注册申请 | 驳回复审中
2014-01-03 商标注册申请 | 驳回复审待审中
2014-01-03 驳回复审 | 申请收文
2013-12-17 商标注册申请 | 打印驳回或部分驳回通知书
2013-12-17 商标注册申请 | 打印驳回通知
2013-11-14 商标注册申请 | 等待补正回文
2013-11-14 商标注册申请 | 补正收文
2013-03-05 商标注册申请 | 打印受理通知
2013-02-05 商标注册申请 | 商标注册申请中
2013-02-05 商标注册申请 | 申请收文
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0104 0104-光刻胶剥离剂(用于去除印刷电路板制造过程中用的光刻胶),
0104-光刻胶显影剂(用于去除印刷电路板制造过程中用的光刻胶),
0104-工业用化学品,
0104-金属表面处理剂(化学制剂),
0104-金属表面磨平用磨光剂(化学制剂)
0104-光刻胶剥离剂(用于去除印刷电路板制造过程中用的光刻胶);0104-光刻胶显影剂(用于去除印刷电路板制造过程中用的光刻胶);0104-工业用化学品;0104-金属表面处理剂(化学制剂);0104-金属表面磨平用磨光剂(化学制剂) - 三菱瓦斯化学株式会社
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2014-01-03 商标注册申请 | 收到驳回复审申请或补充材料,待审
2014-01-03 商标注册申请 | 驳回复审中
2014-01-03 商标注册申请 | 驳回复审待审中
2014-01-03 驳回复审 | 申请 收文
2013-12-17 商标注册申请 | 打印驳回或部分驳回通知书
2013-12-17 商标注册申请 | 打印驳回通知
2013-11-14 商标注册申请 | 等待补正回文
2013-11-14 商标注册申请 | 补正收文
2013-03-05 商标注册申请 | 打印受理通知
2013-02-05 商标注册申请 | 商标注册申请中
2013-02-05 商标注册申请 | 申请收文
