【HONGGUANG】商标详情
- HONGGUANG
- 69257046
- 已注册
- 普通商标
- 2023-01-16
0101 , 0102 , 0104 , 0115 -工业用化学品,
0101-氟,
0101-氯气,
0102-有机硅烷,
0102-氯化氢,
0102-硅烷,
0102-硫酸,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-工业用化学制剂,
0115-工业用黏合剂
-工业用化学品;0101-氟;0101-氯气;0102-有机硅烷;0102-氯化氢;0102-硅烷;0102-硫酸;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-工业用化学制剂;0115-工业用黏合剂 - 1859
- 2023-10-13
- 1871
- 2024-01-14
- 2024-01-14-2034-01-13
- 福建泓光半导体材料有限公司
- 福建省漳州市************
- 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司
2024-02-07 商标注册申请 | 注册证发文
2023-09-28 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-08-03 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-02-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-02-24 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2023-02-07 商标注册申请 | 等待补正通知发文
2023-02-07 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-01-16 商标注册申请 | 申请收文
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- 69257046
- 已注册
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- 2023-01-16
0101 , 0102 , 0104 , 0115 -工业用化学品,
0101-氟,
0101-氯气,
0102-有机硅烷,
0102-氯化氢,
0102-硅烷,
0102-硫酸,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-工业用化学制剂,
0115-工业用黏合剂
-工业用化学品;0101-氟;0101-氯气;0102-有机硅烷;0102-氯化氢;0102-硅烷;0102-硫酸;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-工业用化学制剂;0115-工业用黏合剂 - 1859
- 2023-10-13
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- 2024-01-14
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