【AEMC】商标详情
- AEMC
- 69940839
- 已注册
- 普通商标
- 2023-03-03
0104 , 0106 0104-光致抗蚀剂,
0104-净化剂（澄清剂）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用显影液,
0104-工业用洗净剂,
0104-工业用肥皂（含金属）,
0104-工业用除垢剂,
0104-油净化化学品,
0104-油脂分离剂,
0104-生产加工用除脂剂,
0106-科学用化学制剂（非 医用、非兽医用）,
0106-非医用、非兽医用化学试剂
0104-光致抗蚀剂;0104-净化剂（澄清剂）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用显影液;0104-工业用洗净剂;0104-工业用肥皂（含金属）;0104-工业用除垢剂;0104-油净化化学品;0104-油脂分离剂;0104-生产加工用除脂剂;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0106-非医用、非兽医用化学试剂 - 1839
- 2023-05-13
- 1851
- 2023-08-14
- 2023-08-14-2033-08-13
- 新应材股份有限公司
- 台湾省桃园市************
- 隆天知识产权代理有限公司
2023-09-06 商标注册申请 | 注册证发文
2023-04-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-04-08 商标注册申请 | 等待补正通知发文
2023-04-08 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-03-23 商标注册申请 | 等待补正通知发文
2023-03-03 商标注册申请 | 申请收文
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0104 , 0106 0104-光致抗蚀剂,
0104-净化剂（澄清剂）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用显影液,
0104-工业用洗净剂,
0104-工业用肥皂（含金属）,
0104-工业用除垢剂,
0104-油净化化学品,
0104-油脂分离剂,
0104-生产加工用除脂剂,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0106-非医用、非兽医用化学试剂
0104-光致抗蚀剂;0104-净化剂（澄清剂）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用显影液;0104-工业用洗净剂;0104-工业用肥皂（含金属）;0104-工业用除垢剂;0104-油净化化学品;0104-油脂分离剂;0104-生产加工用除脂剂;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0106-非医用、非兽医用化学试剂 - 1839
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