【NEOGEN】商标详情
- NEOGEN
- 13565729
- 已驳回
- 普通商标
- 2013-11-19
0742 , 0744 -低压化学气相沉积设备,
-制半导体用原子层沉积设备,
-制半导体用沉积设备,
-制半导体用蚀刻设备,
-制造发光二极管用沉积设备,
-制造发光二极管用蚀刻设备,
-制造发光二极管设备用原子层沉积设备,
-制造太阳能电池用原子层沉积设备,
-制造太阳能电池用沉积设备,
-制造太阳能电池用蚀刻设备,
-制造平板显示器用原子层沉积设备,
-制造平板显示器用沉积设备,
-制造平板显示器用蚀刻设备,
-制造有机发光二极管用原子层沉积设备,
-制造有机发光二极管用沉积设备,
-制造有机发光二极管用蚀刻设备,
-电浆化学气相沉积设备,
-电浆增强化学气相沉积设备,
0742-半导体加工机械,
0744-金属有机化学气相沉积设备
-低压化学气相沉积设备;-制半导体用原子层沉积设备;-制半导体用沉积设备;-制半导体用蚀刻设备;-制造发光二极管用沉积设备;-制造发光二极管用蚀刻设备;-制造发光二极管设备用原子层沉积设备;-制造太阳能电池用原子层沉积设备;-制造太阳能电池用沉积设备;-制造太阳能电池用蚀刻设备;-制造平板显示器用原子层沉积设备;-制造平板显示器用沉积设备;-制造平板显示器用蚀刻设备;-制造有机发光二极管用原子层沉积设备;-制造有机发光二极管用沉积设备;-制造有机发光二极管用蚀刻设备;-电浆化学气相沉积设备;-电浆增强化学气相沉积设备;0742-半导体加工机械;0744-金属有机化学气相沉积设备 - 吉佳蓝科技股份有限公司
- 京畿道华城市************
- 中科专利商标代理有限责任公司
2015-01-30 商标注册申请 | 等待驳回复审
2014-12-04 商标注册申请 | 驳回通知发文
2014-06-28 商标注册申请 | 等待补正回文
2013-12-16 商标注册申请 | 打印受理通知
2013-11-19 商标注册申请 | 申请收文
- NEOGEN
- 13565729
- 已驳回
- 普通商标
- 2013-11-19
0742 , 0744 -低压化学气相沉积设备,
-制半导体用原子层沉积设备,
-制半导体 用沉积设备,
-制半导体用蚀刻设备,
-制造发光二极管用沉积设备,
-制造发光二极管用蚀刻设备,
-制造发光二极管设备用原子层沉积设备,
-制造太阳能电池用原子层沉积设备,
-制造太阳能电池用沉积设备,
-制造太阳能电池用蚀刻设备,
-制造平板显示器用原子层沉积设备,
-制造平板显示器用沉积设备,
-制造平板显示器用蚀刻设备,
-制造有机发光二极管用原子层沉积设备,
-制造有机发光二极管用沉积设备,
-制造有机发光二极管用蚀刻设备,
-电浆化学气相沉积设备,
-电浆增强化学气相沉积设备,
0742-半导体加工机械,
0744-金属有机化学气相沉积设备
-低压化学气相沉积设备;-制半导体用原子层沉积设备;-制半导体用沉积设备;-制半导体用蚀刻设备;-制造发光二极管用沉积设备;-制造发光二极管用蚀刻设备;-制造发光二极管设备用原子层沉积设备;-制造太阳能电池用原子层沉积设备;-制造太阳能电池用沉积设备;-制造太阳能电池用蚀刻设备;-制造平板显示器用原子层沉积设备;-制造平板显示器用沉积设备;-制造平板显示 器用蚀刻设备;-制造有机发光二极管用原子层沉积设备;-制造有机发光二极管用沉积设备;-制造有机发光二极管用蚀刻设备;-电浆化学气相沉积设备;-电浆增强化学气相沉积设备;0742-半导体加工机械;0744-金属有机化学气相沉积设备 - 吉佳蓝科技股份有限公司
- 京畿道华城市************
- 中科专利商标代理有限责任公司
2015-01-30 商标注册申请 | 等待驳回复审
2014-12-04 商标注册申请 | 驳回通知发文
2014-06-28 商标注册申请 | 等待补正回文
2013-12-16 商标注册申请 | 打印受理通知
2013-11-19 商标注册申请 | 申请收文
