【亿利青化】商标详情
- 亿利青化
- 74914950
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-01
0101 , 0102 , 0104 , 0106 0101-氢,
0101-钠,
0102-工业用无水氢氧化钠,
0102-工业用苛性钠,
0102-工业用酶,
0102-苛性钠（氢氧化钠）,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用洗净剂,
0104-活性炭,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）
0101-氢;0101-钠;0102-工业用无水氢氧化钠;0102-工业用苛性钠;0102-工业用酶;0102-苛性钠（氢氧化钠）;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用洗净剂;0104-活性炭;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用） - 1871
- 2024-01-13
- 1883
- 2024-04-14
- 2024-04-14-2034-04-13
- 成都大成盛世贸易有限公司
- 四川省成都市************
- 浙江金牌商标代理有限公司
2026-04-27 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 变更证明
2026-04-22 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2024-05-08 商标注册申请 | 注册证发文
2023-11-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-11-01 商标注册申请 | 申请收文
- 亿利青化
- 74914950
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-01
0101 , 0102 , 0104 , 0106 0101-氢,
0101-钠,
0102-工业用无水氢氧化钠,
0102-工业用苛性钠,
0102-工业用酶,
0102-苛性钠（氢氧化钠）,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用洗净剂,
0104-活性炭,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）
0101-氢;0101-钠;0102-工业用无水氢氧化钠;0102-工业用苛性钠;0102-工业用酶;0102-苛性钠（氢氧化钠）;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用洗净剂;0104-活性炭;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用） - 1871
- 2024-01-13
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- 2024-04-14
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2026-04-22 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2024-05-08 商标注册申请 | 注册证发文
2023-11-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-11-01 商标注册申请 | 申请收文
