【NMC】商标详情
- NMC
- 6596220
- 已注册
- 普通商标
- 2008-03-14
0104 , 0107 , 0116 0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-唱片修复制剂,
0104-搪瓷或玻璃用遮光剂,
0104-瓷土,
0104-膨润土,
0104-除颜料外的制造搪瓷用化学制剂,
0104-陶瓷釉料,
0107-未曝光感光胶卷,
0107-照像感光板,
0116-纸浆
0104-制技术陶瓷用合成物;0104-唱片修复制剂;0104-搪瓷或玻璃用遮光剂;0104-瓷土;0104-膨润土;0104-除颜料外的制造搪瓷用化 学制剂;0104-陶瓷釉料;0107-未曝光感光胶卷;0107-照像感光板;0116-纸浆 - 1213
- 2010-04-27
- 1225
- 2010-07-28
- 2020-07-28-2030-07-27
- 中国国家博物馆
- 北京市北京市************
- 北京市森博知识产权代理有限公司
2020-04-09 商标续展 | 核准通知打印发送
2020-03-13 商标续展 | 申请收文
2020-03-11 商标续展 | 申请收文
2010-08-16 商标注册申请 | 打印注册证
2008-09-18 商标注册申请 | 等待补正回文
2008-09-18 商标注册申请 | 补正收文
2008-03-31 商标注册申请 | 打印受理通知
2008-03-14 商标注册申请 | 申请收文
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0104 , 0107 , 0116 0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-唱片修复制剂,
0104-搪瓷或玻璃用遮光剂,
0104-瓷土,
0104-膨润土,
0104-除颜料外的制造搪瓷用化学制剂,
0104-陶瓷釉料,
0107-未曝光感光胶卷,
0107-照像感光板,
0116-纸浆
0104-制技术陶瓷用合成物;0104-唱片修复制剂;0104-搪瓷或玻璃用遮光剂;0104-瓷土;0104-膨润土;0104-除颜料外的制造搪瓷用化学制剂;0104-陶瓷釉料;0107-未曝光感光胶卷;0107-照像感光板;0116-纸浆 - 1213
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