【PHOTONX】商标详情
- PHOTONX
- 77982830
- 已注册
- 普通商标
- 2024-04-15
0102 , 0104 , 0106 , 0115 0102-有机卤化物,
0102-有机金属化合物,
0102-杂环化合物,
0102-盐类（化学制剂）,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-平版印刷用化学品,
0104-防水化学合成物,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0102-有机卤化物;0102-有机金属化合物;0102-杂环化合物;0102-盐类（化学制剂）;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-平版印刷用化学品;0104-防水化学合成物;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0106-非医用、非兽医用化学试剂;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 1897
- 2024-07-27
- 1909
- 2024-10-28
- 2024-10-28-2034-10-27
- 天津伏通科技有限公司
- 天津市天津市************
- 天津知川知识产权代理事务所（特殊普通合伙）
2024-11-21 商标注册申请 | 注册证发文
2024-05-07 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-04-15 商标注册申请 | 申请收文
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0102 , 0104 , 0106 , 0115 0102-有机卤化物,
0102-有机金属化合物,
0102-杂环化合物,
0102-盐类（化学制剂）,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-平版印刷用化学品,
0104-防水化学合成物,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0102-有机卤化物;0102-有机金属化合物;0102-杂环化合物;0102-盐类（化学制剂）;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-平版印刷用化学品;0104-防水化学合成物;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0106-非医用、非兽医用化学试剂;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 1897
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2024-04-15 商标注册申请 | 申请收文
