
【LAPULASI】商标详情

- LAPULASI
- 70758329
- 已注册
- 普通商标
- 2023-04-07
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-工业硅,
0101-石墨烯,
0102-碳化硅(原材料),
0102-磷酸铁锂,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业用固态气体;0101-工业硅;0101-石墨烯;0102-碳化硅(原材料);0102-磷酸铁锂;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1850
- 2023-08-06
- 1862
- 2023-11-07
- 2023-11-07-2033-11-06
- 拉普拉斯新能源科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 邮寄办理
2023-12-02 商标注册申请 | 注册证发文
2023-04-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-04-07 商标注册申请 | 申请收文
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- 70758329
- 已注册
- 普通商标
- 2023-04-07
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-工业硅,
0101-石墨烯,
0102-碳化硅(原材料),
0102-磷酸铁锂,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业用固态气体;0101-工业硅;0101-石墨烯;0102-碳化硅(原材料);0102- 磷酸铁锂;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1850
- 2023-08-06
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2023-12-02 商标注册申请 | 注册证发文
2023-04-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-04-07 商标注册申 请 | 申请收文


