【应化新材料】商标详情
- 应化新材料
- 90931995
- 待审中
- 普通商标
- 2026-04-01
0101 , 0102 , 0104 , 0108 0101-半导体用硅,
0101-硅,
0102-有机卤代硅烷,
0102-有机硅烷,
0102-硅烷,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0108-有机硅氧烷,
0108-硅氧烷
0101-半导体用硅;0101-硅;0102-有机卤代硅烷;0102-有机硅烷;0102-硅烷;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0108-有机硅氧烷;0108-硅氧烷 - 北京应化新材料有限公司
- 北京市北京市************
- 天津市择天商标代理有限责任公司
2026-05-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-04-01 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0104 , 0108 0101-半导体用硅,
0101-硅,
0102-有机卤代硅烷,
0102-有机硅烷,
0102-硅烷,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0108-有机硅氧烷,
0108-硅氧烷
0101-半导体用硅;0101-硅;0102-有机卤代硅烷;0102-有机硅烷;0102-硅烷;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0108-有机硅氧烷;0108-硅氧烷 - 北京应化新材料有限公司
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