【致态】商标详情
- 致态
- 80227402
- 已注册
- 普通商标
- 2024-08-07
4209 , 4214 , 4216 , 4220 4209-为他人研究和开发新产品,
4209-半导体加工技术研究,
4209-半导体设计,
4209-技术项目研究,
4209-撰写科技文稿,
4209-科学实验 室服务,
4209-科学研究,
4214-材料测试,
4216-工业品外观设计,
4220-信息技术咨询
4209-为他人研究和开发新产品;4209-半导体加工技术研究;4209-半导体设计;4209-技术项目研究;4209-撰写科技文稿;4209-科学实验室服务;4209-科学研究;4214-材料测试;4216-工业品外观设计;4220-信息技术咨询 - 1953
- 2025-09-27
- 1965
- 2025-12-28
- 2025-12-28-2035-12-27
- 长江存储科技有限责任公司
- 湖北省武汉市************
- 北京派特恩知识产权代理有限公司
2025-05-20 驳回复审 | 实审裁文发文
2025-03-05 去国际注册 | 受理通知发文
2025-02-26 去国际注册 | 核准电子发文
2025-02-20 去国际注册 | 收费通知单
2025-01-23 去国际注册 | 补正通知发文
2025-01-02 去国际注册 | 申请收文
2024-12-31 去国际注册 | 申请收文
2024-12-16 驳回复审 | 申请收文
2024-11-16 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-08-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-08-07 商标注册申请 | 申请收文
- 致态
- 80227402
- 已注册
- 普通商标
- 2024-08-07
4209 , 4214 , 4216 , 4220 4209-为他人研究和开发新产品,
4209-半导体加工技术研究,
4209-半导体设计,
4209-技术项目研究,
4209-撰写科技文稿,
4209-科学实验室服务,
4209-科学研究,
4214-材料测试,
4216-工业品外观设计,
4220-信息技术咨询
4209-为他人研究和开发新产品;4209-半导体加工技术研究;4209-半导体设计;4209-技术项目研究;4209-撰写科技文稿;4209-科学实验室服务;4209-科学研究;4214-材料测试;4216-工业品外观设计;4220-信息技术咨询 - 1953
- 2025-09-27
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2025-02-26 去国际注册 | 核准电子发文
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2025-01-23 去国际注册 | 补正通知发文
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2024-12-16 驳回复审 | 申请收文
2024-11-16 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-08-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-08-07 商标注册申请 | 申请收文
