【PMER】商标详情
- PMER
- 3714100
- 已注册
- 普通商标
- 2003-09-12
0104 0104-光敏抗蚀剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用化学品(用于平版印刷中形成聚合浮雕影像),
0104-工业用化学品(用于生产半导体),
0104-工业用化学品(用于生产印版),
0104-工业用化学品(用于生产平板显示器),
0104-工业用化学品(用于生产电子装置及其部件)
0104-光敏抗蚀剂;0104-工业用化学品;0104-工业用化学品(用于平版印刷中形成聚合浮雕影像);0104-工业用化学品(用于生产半导体);0104-工业用化学品(用于生产印版);0104-工业用化学品(用于生产平板显示器);0104-工业用化学品(用于生产电子装置及其部件) - 970
- 2005-04-07
- 982
- 2005-07-07
- 2015-07-07-2025-07-06
- 东京应化工业株式会社
- 神奈川川崎市************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2015-12-01 商标续展 | 核准通知打印发送
2015-06-30 商标续展 | 等待打印受理通知书
2015-06-08 商标续展 | 申请收文
2005-08-02 商标注册申请 | 打印注册证
2003-10-15 商标注册申请 | 打印受理通知
2003-09-12 商标注册申请 | 申请收文
- PMER
- 3714100
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- 2003-09-12
0104 0104-光敏抗蚀剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用化学品(用于平版印刷中形成聚合浮雕影像),
0104-工业用化学品(用于生产半导体),
0104-工业用化学品(用于生产印版),
0104-工业用化学品(用于生产平板显示器),
0104-工业用化学品(用于生产电子装置及其部件)
0104-光敏抗蚀剂;0104-工业用化学品;0104-工业用化学品(用于平版印刷中形成聚合浮雕影像);0104-工业用化学品(用于生产半导体);0104-工业用化学品(用于生产印版);0104-工业用化学品(用于生产平板显示器);0104-工业用化学品(用于生产电子装置及其部件) - 970
- 2005-04-07
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