【图形】商标详情
- 图形
- 81537502
- 已注册
- 普通商标
- 2024-10-23
0102 , 0104 , 0106 , 0114 0102-碳化硅（原材料）,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-化学防腐剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-罩面漆和底漆上浆料,
0104-金属腐蚀剂,
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0114-上浆剂
0102-碳化硅（原材料）;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-化学防腐剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-罩面漆和底漆上浆料;0104-金属腐蚀剂;0106-非医用、非兽医用化学试剂;0114-上浆剂 - 1920
- 2025-01-20
- 1932
- 2025-04-21
- 2025-04-21-2035-04-20
- 长沙贝和科技有限公司
- 湖南省长沙市************
- 长沙东熠企业管理咨询有限公司
2025-05-15 商标注册申请 | 注册证发文
2024-11-13 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-10-23 商标注册申请 | 申请收文
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- 2024-10-23
0102 , 0104 , 0106 , 0114 0102-碳化硅（原材料）,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-化学防腐剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-罩面漆和底漆上浆料,
0104-金属腐蚀剂,
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0114-上浆剂
0102-碳化硅（原材料）;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-化学防腐剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-罩面漆和底漆上浆料;0104-金属腐蚀剂;0106-非医用、非兽医用化学试剂;0114-上浆剂 - 1920
- 2025-01-20
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- 2025-04-21
- 2025-04-21-2035-04-20
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2024-11-13 商标注册申请 | 受理通知书发文
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