【AML】商标详情
- AML
- G1589309
- 已销亡
- 普通商标
- 2021-05-06
0104 , 0108 0104-光刻用光致抗蚀剂,
0104-光刻用化学产品,
0104-光刻用化学品,
0104-光致抗蚀剂,
0108-用于制造三维模型的液态光敏树脂
0104-光刻用光致抗蚀剂;0104-光刻用化学产品;0104-光刻用化学品;0104-光致抗蚀剂;0108-用于制造三维模型的液态光敏树脂 - 2021-03-19-2031-03-19
- NANOSCRIBE HOLDING GMBH
- 巴登-符腾堡埃根斯泰因-列奥波德港************
- 国际局
2021-11-14 不规范通知 | 申请收文
2021-11-07 国际注销 | 申请收文
2021-10-16 领土延伸 | 驳回电子发文
2021-05-06 领土延伸 | 申请收文
- AML
- G1589309
- 已销亡
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- 2021-05-06
0104 , 0108 0104-光刻用光致抗蚀剂,
0104-光刻用化学产品,
0104-光刻用化学品,
0104-光致抗蚀剂,
0108-用于制造三维模型的液态光敏树脂
0104-光刻用光致抗蚀剂;0104-光刻用化学产品;0104-光刻用化学品;0104-光致抗蚀剂;0108-用于制造三维模型的液态光敏树脂 - 2021-03-19-2031-03-19
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