【BLH】商标详情
- BLH
- 35206962
- 已注册
- 普通商标
- 2018-12-10
0104 , 0115 0104-制清漆用工业化学品,
0104-制漆用化学品,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0115-制墙面材料用粘合剂,
0115-工业用粘合剂
0104-制清漆用工业化学品;0104-制漆用化学品;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用废水处理化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0115-制墙面材料用粘合剂;0115-工业用粘合剂 - 1664
- 2019-09-20
- 1676
- 2019-12-21
- 2019-12-21-2029-12-20
- 佟新廷
- 江苏省苏州市************
- 邮寄办理
2020-02-10 商标注册申请 | 注册证发文
2020-02-10 商标注册申请 | 等待注册证发文
2019-08-30 商标注册申请 | 等待驳回复审
2019-07-05 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2019-07-05 商标注册申请 | 驳回通知发文
2018-12-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2018-12-25 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2018-12-10 商标注册申请 | 申请收文
- BLH
- 35206962
- 已注册
- 普通商标
- 2018-12-10
0104 , 0115 0104-制清漆用工业化学品,
0104-制漆用化学品,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0115-制墙面材料用粘合剂,
0115-工业用粘合剂
0104-制清漆用工业化学品;0104-制漆用化学品;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用 蚀刻剂;0104-工业用废水处理化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0115-制墙面材料用粘合剂;0115-工业用粘合剂 - 1664
- 2019-09-20
- 1676
- 2019-12-21
- 2019-12-21-2029-12-20
- 佟新廷
- 江苏省苏州市************
- 邮寄办理
2020-02-10 商标注册申请 | 注册证发文
2020-02-10 商标注册申请 | 等待注册证发文
2019-08-30 商标注册申请 | 等待驳 回复审
2019-07-05 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2019-07-05 商标注册申请 | 驳回通知发文
2018-12-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2018-12-25 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2018-12-10 商标注册申请 | 申请收文
