【光徽微影】商标详情
- 光徽微影
- 86352516
- 待审中
- 普通商标
- 2025-07-07
4209 4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
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- 北京市北京市************
- 北京力致知识产权服务有限公司
2025-11-03 商标注册申请 | 驳回通知书发文
2025-08-07 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-07-07 商标注册申请 | 申请收文
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