【SMEE】商标详情
- SMEE
- 6674806
- 已注册
- 普通商标
- 2008-04-22
0901 , 0910 , 0911 , 0913 0901-半导体设备控制软件,
0910-半导体设备超精密对准装置,
0910-半导体设备超精密调焦调平测量装置,
0911-光学器械和仪器,
0913-半导体设备曝光装置,
0913-半导体设备超精密同步实时控制装置,
0913-半导体设备超精密环境控制装置,
0913-超精密温度控制装置,
0913-集成电路
0901-半导体设备控制软件;0910-半导体设备超精密对准装置;0910-半导体设备超精密调焦调平测量装置;0911-光学器械和仪器;0913-半导体设备曝光装置;0913-半导体设备超精密同步实时控制装置;0913-半导体设备超精密环境控制装置;0913-超精密温度控制装置;0913-集成电路 - 1217
- 2010-05-27
- 1229
- 2010-08-28
- 2020-08-28-2030-08-27
- 上海微电子装备（集团）股份有限公司
- 上海市上海市************
2020-06-23 商标续展 | 核准通知打印发送
2020-05-20 商标续展 | 申请收文
2020-05-18 商标续展 | 申请收文
2017-09-21 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2017-06-03 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印受理通知书
2017-06-03 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 等待打印受理通知书
2017-04-17 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2010-09-15 商标注册申请 | 打印注册证
2009-03-16 商标注册申请 | 等待补正回文
2009-03-16 商标注册申请 | 补正回文
2009-03-16 商标注册申请 | 补正收文
2009-02-01 商标注册申请 | 等待补正回文
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0910-半导体设备超精密对准装置,
0910-半导体设备超精密调焦调平测量装置,
0911-光学器械和仪器,
0913-半导体设备曝光装置,
0913-半导体设备超精密同步实时控制装置,
0913-半导体设备超精密环境控制装置,
0913-超精密温度控制装置,
0913-集成电路
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