【JR SEMI】商标详情
- JR SEMI
- 75487830
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-29
0101 , 0102 , 0104 , 0108 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0101-结晶硅,
0102-聚硅氮烷,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0108-有机硅树脂,
0108-酚醛树脂,
0115-固化剂
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0101-结晶硅;0102-聚硅氮烷;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0108-有机硅树脂;0108-酚醛树脂;0115-固化剂 - 1875
- 2024-02-13
- 1887
- 2024-05-14
- 2024-05-14-2034-05-13
- 天津久日新材料股份有限公司
- 天津市天津市************
- 邮寄办理
2024-12-05 商标 使用许可备案 | 核准通知书打印发送
2024-12-04 商标使用许可备案 | 核准通知书打印发送
2024-09-27 商标使用许可备案 | 申请收文
2024-06-09 商标注册申请 | 注册证发文
2023-12-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-11-29 商标注册申请 | 申请收文
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- 75487830
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-29
0101 , 0102 , 0104 , 0108 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0101-结晶硅,
0102-聚硅氮烷,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0108-有机硅树脂,
0108-酚醛树脂,
0115-固化剂
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0101-结晶硅;0102-聚硅氮烷;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积 薄膜用化工原料;0108-有机硅树脂;0108-酚醛树脂;0115-固化剂 - 1875
- 2024-02-13
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2024-12-04 商标使用许可备案 | 核准通知书打印发送
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2024-06-09 商标注册申请 | 注册证发文
2023-12-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-11-29 商标注册申请 | 申请收文
