
【YOODATECH】商标详情

- YOODATECH
- 79878792
- 已注册
- 普通商标
- 2024-07-18
0101 , 0102 , 0103 , 0104 0101-一氧化二氮,
0101-六氟化硫,
0101-半导体用硅,
0101-氖,
0101-氘气,
0101-氟,
0101-氦,
0101-氨,
0101-氯气,
0101-硅,
0102-四氯化物,
0102-工业用乙炔,
0102-工业用氨水(挥发性碱),
0102-工业用过氧化氢,
0102-异丙醇,
0102-有机卤化物,
0102-有机硅烷,
0102-有机金属化合物,
0102-氟化铵,
0102-氢氟酸,
0102-氯化物,
0102-氯氟碳化合物,
0102-硅微粉,
0102-硅烷,
0102-硫酸,
0102-磷化氢,
0102-聚硅烷,
0102-金属氯化物,
0103-工业用同位素,
0103-重水,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂
0101-一氧化二氮;0101-六氟化硫;0101-半导体用硅;0101-氖;0101-氘气;0101-氟;0101-氦;0101-氨;0101-氯气;0101-硅;0102-四氯化物;0102-工业用乙炔;0102-工业用氨水(挥发性碱);0102-工业用过氧化氢;0102-异丙醇;0102-有机卤化物;0102-有机硅烷;0102-有机金属化合物;0102-氟化铵;0102-氢氟酸;0102-氯化物;0102-氯氟碳化合物;0102-硅微粉;0102-硅烷;0102-硫酸;0102-磷化氢;0102-聚硅烷;0102-金属氯化物;0103-工业用同位素;0103-重水;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂 - 1911
- 2024-11-13
- 1923
- 2025-02-14
- 2025-02-14-2035-02-13
- 樾达科技(上海)有限公司
- 上海市上海市************
- 重庆猪八戒知识产权服务有限公司
2025-03-13 商标注册申请 | 注册证发文
2024-08-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-07-18 商标注册申请 | 申请收文
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0104-印刷电路制造用化学氧化剂
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