【龙为】商标详情
- 龙为
- 74482969
- 已注册
- 普通商标
- 2023-10-10
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-液体二氧化硫,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-喷雾器用气体推进剂,
0104-导热膏,
0104-气体净化剂,
0104-气雾剂用气体推进剂,
0104-除冰用液体盐
0101-半导体用硅;0101-液体二氧化硫;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-喷雾器用气体推进剂;0104-导热膏;0104-气体净化剂;0104-气雾剂用气体推进剂;0104-除冰用液体盐 - 1869
- 2023-12-27
- 1881
- 2024-03-28
- 2024-03-28-2034-03-27
- 臻芯龙为（上海）半导体材料有限公司
- 上海市上海市************
- 上海利迅知识产权代理有限公司
2024-04-23 商标注册申请 | 注册证发文
2023-10-28 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-10-10 商标注册申请 | 申请收文
- 龙为
- 74482969
- 已注册
- 普通商标
- 2023-10-10
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-液体二氧化硫,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-喷雾器用气体推进剂,
0104-导热膏,
0104-气体净化剂,
0104-气雾剂用气体推进剂,
0104-除冰用液体盐
0101-半导体用硅;0101-液体二氧化硫;0102-碳化硅;0104-半导体制造 用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-喷雾器用气体推进剂;0104-导热膏;0104-气体净化剂;0104-气雾剂用气体推进剂;0104-除冰用液体盐 - 1869
- 2023-12-27
- 1881
- 2024-03-28
- 2024-03-28-2034-03-27
- 臻芯龙为（上海）半导体材料有限公司
- 上海市上海市************
- 上海利迅知识产权代理有限公司
2024-04-23 商标注册申请 | 注册证发文
2023-10-28 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-10-10 商标注册申请 | 申请收文
