【SURROUND THE WAFER】商标详情
- SURROUND THE WAFER
- G1731196
- 其他
- 普通商标
- 2023-05-25
4209 , 4210 , 4214 , 4216 4209-动力和活性气体产生、真空测量和控制、气体产生和输送、激光和光子产生、输送和测量领域的产品研究和开发,
4209-半导体制造工艺流程领域的产品设计与开发,即用于真空下使用的气体的生成、分析、控制、测量和输送的部件、子系统和系统的设计与开发,
4209-新产品开发的设计和测试,即用于光束产生、衰减和传输、光束轮廓和测量、样品定位和稳定的系统级集成的激光器、光学和光机械产品,
4209-激光器、光学和光机械产品新产品开发的设计和测试,用于激光束产生、衰减和传输、激光束轮廓和测量、样品定位和稳定的系统级集成,
4209-用于半导体制造过程中的产品校准,
4210-动力和活性气体产生、真空测量和控制、气体产生和输送、激光和光子产生、输送和测量领域的产品研究和开发,
4214-新产品开发的设计和测试,即用于光束产生、衰减和传输、光束轮廓和测量、样品定位和稳定的系统级集成的激光器、光学和光机械产品,
4214-激光器、光学和光机械产品新产品开发的设计和测试,用于激光束产生、衰减和传输、激光束轮廓和测量、样品定位和稳定的系统级集成,
4216-半导体制造工艺流程领域的产品设计与开发,即用于真空下使用的气体的生成、分析、控制、测量和输送的部件、子系统和系统的设计与开发,
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- MKS INSTRUMENTS, INC.
- 马萨诸塞安多佛************
2024-04-07 国际部分注销 | 申请收文
2024-02-20 国际更正 | 申请收文
2023-09-12 领土延伸 | 审查
2023-05-25 商标注册申请 | 申请收文
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