【芯谷】商标详情
- 芯谷
- 29267996
- 已注册
- 普通商标
- 2018-02-11
0104 , 0106 , 0109 , 0110 , 0113 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-水净化用化学品,
0104-纺织品上光化学品,
0104-蓄电池用防泡沫溶液,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）,
0109-肥料,
0110-防火制剂,
0113-饮料工业用的 过滤制剂
0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-水净化用化学品;0104-纺织品上光化学品;0104-蓄电池用防泡沫溶液;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）;0109-肥料;0110-防火制剂;0113-饮料工业用的过滤制剂 - 1617
- 2018-09-27
- 1629
- 2018-12-28
- 2018-12-28-2028-12-27
- 路明科技集团有限公司
- 辽宁省大连市************
- 北京中北知识产权代理有限公司
2019-02-12 商标注册申请 | 注册证发文
2018-03-05 商标注册申请 | 受理通知书发文
2018-02-11 商标注册申请 | 申请收文
- 芯谷
- 29267996
- 已注册
- 普通商标
- 2018-02-11
0104 , 0106 , 0109 , 0110 , 0113 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-水净化用化学品,
0104-纺织品上光化学品,
0104-蓄电池用防泡沫溶液,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）,
0109-肥料,
0110-防火制剂,
0113-饮料工业用的过滤制剂
0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-水净化用化学品;0104-纺织品上光化学品;0104-蓄电池用防泡沫溶液;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）;0109-肥料;0110-防火制剂;0113-饮料工业用的过滤制剂 - 1617
- 2018-09-27
- 1629
- 2018-12-28
- 2018-12-28-2028-12-27
- 路明科技集团有限公司
- 辽宁省大连市************
- 北京中北知识产权代理有限公司
2019-02-12 商标注册申请 | 注册证发文
2018-03-05 商标注册申请 | 受理通知书发文
2018-02-11 商标注册申请 | 申请收文
