【ATMOS】商标详情
- ATMOS
- G917902
- 已注册
- 普通商标
- 2007-04-29
0744 0744-用于生产半导体芯片以及制作半导体薄膜或层压结构(外延-电抗器)的基片、半导体基片、硅片及晶片的加工机械
0744-用于生产半导体芯片以及制作半导体薄膜或层压结构(外延-电抗器)的基片、半导体基片、硅片及晶片的加工机械 - 2016-12-05-2026-12-05
- MATTSON THERMAL PRODUCTS GMBH
- 巴登-符腾堡多恩施泰滕************
- 国际局
2018-06-21 撤销连续三年停止使用注册商标 | 申请收文
2017-04-13 国际续展 | 申请核准审核
2016-12-28 国际续展 | 申请收文
2008-02-20 领土延伸 | 审查
2007-04-29 领土延伸 | 申请收文
注册商标撤销公告 2019-05-13 第1647期 查看公告
- ATMOS
- G917902
- 已注册
- 普通商标
- 2007-04-29
0744 0744-用于生产半导体芯片以及制作半导体薄膜或层压 结构(外延-电抗器)的基片、半导体基片、硅片及晶片的加工机械
0744-用于生产半导体芯片以及制作半导体薄膜或层压结构(外延-电抗器)的基片、半导体基片、硅片及晶片的加工机械 - 2016-12-05-2026-12-05
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- 国际局
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2008-02-20 领土延伸 | 审查
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