【NNIM】商标详情
- NNIM
- 67173584
- 已注册
- 普通商标
- 2022-09-13
0101 , 0102 , 0104 0101-准金属,
0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0101-硅,
0101-稀土金属,
0102-碳化硅（原材料）,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层
0101-准金属;0101-半导体用硅;0101-工业硅;0101-硅;0101-稀土金属;0102-碳化硅（原材料）;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层 - 1819
- 2022-12-13
- 1831
- 2023-03-14
- 2023-03-14-2033-03-13
- 仲联半导体（上海）有限公司
- 上海市上海市************
- 北京布瑞知识产权代理有限公司
2023-04-06 商标注册申请 | 注册证发文
2023-04-06 商标注册申请 | 等待注册证发文
2022-10-09 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-10-09 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-09-13 商标注册申请 | 申请收文
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- 2022-09-13
0101 , 0102 , 0104 0101-准金属,
0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0101-硅,
0101-稀土金属,
0102-碳化硅（原材料）,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层
0101-准金属;0101-半导体用硅;0101-工业硅;0101-硅;0101-稀土金属;0102-碳化硅（原材料）;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层 - 1819
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