【2300E4】商标详情
- 2300E4
- G1063424
- 已注册
- 普通商标
- 2011-02-05
0744 0744-半导体制造机器，半导体加工机器，半导体清洁机器，半导体诊断支持和保养机器，及其替换零部件,
0744-半导体基片制造机器，半导体基片加工机器，半导体基片清洁机器，半导体基片诊断支持和保养机器，及其替换零部件,
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- LAM RESEARCH CORPORATION
- 加利福尼亚弗里蒙特************
- 国际局
2020-11-11 国际续展 | 申请核准审核
2020-11-08 国际续展 | 申请收文
2011-09-27 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2011-09-27 领土延伸 | 审查
2011-02-05 领土延伸 | 申请收文
- 2300E4
- G1063424
- 已注册
- 普通商标
- 2011-02-05
0744 0744-半导体制造机器，半导体加工机器，半导体清洁机器，半导体诊断支持和保养机器，及其替换零部件,
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- LAM RESEARCH CORPORATION
- 加利福尼亚弗里蒙特************
- 国际局
2020-11-11 国际续展 | 申请核准审核
2020-11-08 国际续展 | 申请收文
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2011-09-27 领土延伸 | 审查
2011-02-05 领土延伸 | 申请收文
