【赛美科】商标详情
- 赛美科
- 60070274
- 已销亡
- 普通商标
- 2021-10-25
0302 , 0303 0302-家用化学清洁制剂,
0302-挥发碱（氨水）（去污剂）,
0302-氨水（挥发性碱）（去污剂）,
0302-清洁用氨水,
0302-清洁用油,
0302-清洗用洗涤碱,
0302-硅清洁剂,
0303-半导体表面用抛光剂,
0303-抛光制剂,
0303-抛光蜡
0302-家用化学清洁制剂;0302-挥发碱（氨水）（去污剂）;0302-氨水（挥发性碱）（去污剂）;0302-清洁用氨水;0302-清洁用油;0302-清洗用洗涤碱;0302-硅清洁剂;0303-半导体表面用抛光剂;0303-抛光制剂;0303-抛光蜡 - 深圳新宙邦科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳众鼎专利商标代理事务所（普通合伙）
2022-03-25 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-01-29 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-01-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-12-23 商标注册申请 | 等待补正回文
2021-11-26 商标注册申请 | 补正通知发文
2021-10-25 商标注册申请 | 申请收文
- 赛美科
- 60070274
- 已销亡
- 普通商标
- 2021-10-25
0302 , 0303 0302-家用化学清洁制剂,
0302-挥发碱（氨水）（去污剂）,
0302-氨水（挥发性碱）（去污剂）,
0302-清洁用氨水,
0302-清洁用油,
0302-清洗用洗涤碱,
0302-硅清洁剂,
0303-半导体表面用抛光剂,
0303-抛光制剂,
0303-抛光蜡
0302-家用化学清洁制剂;0302-挥发碱（氨水）（去污剂）;0302-氨水（挥发性碱）（去污剂）;0302-清洁用氨水;0302-清洁用油;0302-清洗用洗涤碱;0302-硅清洁剂;0303-半导体表面用抛光剂;0303-抛光制剂;0303-抛光蜡 - 深圳新宙邦科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳众鼎专利商标代理事务所（普通合伙）
2022-03-25 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-01-29 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-01-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-12-23 商标注册申请 | 等待补正回文
2021-11-26 商标注册申请 | 补正通知发文
2021-10-25 商标注册申请 | 申请收文
