【QUVEX】商标详情
- QUVEX
- 92359817
- 待审中
- 普通商标
- 2026-06-11
0744 -半导体制造用原子层沉积装置,
-半导体制造用激光加工机,
-用以制造半导体之溅镀设备,
-用以制造半 导体之热处理设备,
-用以制造半导体之电子束退火设备,
-用以制造半导体之薄膜沉积设备,
-用以制造半导体之蚀刻机,
0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-等离子刻蚀机
-半导体制造用原子层沉积装置;-半导体制造用激光加工机;-用以制造半导体之溅镀设备;-用以制造半导体之热处理设备;-用以制造半导体之电子束退火设备;-用以制造半导体之薄膜沉积设备;-用以制造半导体之蚀刻机;0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造机;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片处理设备;0744-等离子刻蚀机 - 圆益艾辟思股份有限公司
- 韩国京畿道平泽市振威面振威产团路75
- 北京银龙知识产权代理有限公司
2026-07-14 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-06-11 商标注册申请 | 申请收文
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0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造机,
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0744-等离子刻蚀机
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