【ENTROFLUX】商标详情
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- ENTROFLUX
- 90519337
- 待审中
- 普通商标
- 2026-03-12
0102 , 0104 0102-工业用金属氧化物粉末,
0102-氮化合物,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0102-金属氧化物,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用亮色化学品,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质
0102-工业用金属氧化物粉末;0102-氮化合物;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0102-金属氧化物;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用亮色化学品;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质 - 成都熵基先进新材料有限公司
- 中国（四川）自由贸易试验区成都高新区和乐一街888号14栋1单元16楼1605号
- 四川成都商标事务所有 限公司
2026-04-16 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-03-12 商标注册申请 | 申请收文
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0102-氮化合物,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0102-金属氧化物,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用亮色化学品,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质
0102-工业用金属氧化物粉末;0102-氮化合物;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0102-金属氧化物;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用亮色化学品;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质 - 成都熵基先进新材料有限公司
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