【慧升】商标详情
- 慧升
- 18510996
- 已驳回
- 普通商标
- 2015-12-04
-电子半导体和微电子机械工业清洁，化学机械抛光，掺杂（质），激光，蚀刻，金属化，光刻胶剥离，表面处理，晶圆清洗，薄膜沉积，室内清洁，化学机械抛光后清洗，除渣用清洗剂及气体
-电子半导体和微电子机械工业清洁，化学机械抛光，掺杂（质），激光，蚀刻，金属化，光刻胶剥离，表面处理，晶圆清洗，薄膜沉积，室内清洁，化学机械抛光后清洗，除渣用清洗剂及气体 - 空气制品及化学品有限公司
- 宾夕法尼亚纽敦************
- 北京金杜知识产权代理有限公司
2016-08-10 商标注册申请 | 等待不予受理通知书发文
2016-07-25 商标注册申请 | 等待补正回文
2016-05-26 商标注册申请 | 等待补正通知发文
2015-12-04 商标注册申请 | 申请收文
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