【SOLAYER】商标详情
- SOLAYER
- G1074400
- 已注册
- 普通商标
- 2011-05-15
0721 , 0735 , 0736 , 0742 , 0744 , 0747 , 0750 0721-产品涂层或封装用机器,
0735-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备,
0736-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处 理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备,
0742-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备,
0744-半导体处理装置,尤其是用于在真空中处理半导体的,
0744-半导体表面处理装置,
0744-半导体表面气化装置,尤其是真空中的,
0744-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备,
0744-运送或处理或提供光电元件用装置,
0747-产品涂层或封装用机器,
0747-涂层前表面预处理装置,
0747-涂层用机器、设备和沉积系统装置,
0747-表面涂层用设备,
0750-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备
0721-产品涂层或封装用机器;0735-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备;0736-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料 气化设备;0742-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备;0744-半导体处理装置,尤其是用于在真空中处理半导体的;0744-半导体表面处理装置;0744-半导体表面气化装置,尤其是真空中的;0744-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备;0744-运送或处理或提供光电元件用装置;0747-产品涂层或封装用机器;0747-涂层前表面预处理装置;0747-涂层用机器、设备和沉积系统装置;0747-表面涂层用设备;0750-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备 - 2021-02-23-2031-02-23
- Solayer GmbH
- 苏黎世州门内多夫************
- 国际局
2021-03-23 国际续展 | 申请核准审核
2021-03-14 国际续展 | 申请收文
2017-06-08 国际变更 | 申请核准审核
2016-02-28 国际变更 | 申请收文
2011-11-08 领土延伸 | 审查
2011-05-15 领土延伸 | 申请收文
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0721 , 0735 , 0736 , 0742 , 0744 , 0747 , 0750 0721-产品涂层或封装用机器,
0735-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备,
0736-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备,
0742-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机 器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备,
0744-半导体处理装置,尤其是用于在真空中处理半导体的,
0744-半导体表面处理装置,
0744-半导体表面气化装置,尤其是真空中的,
0744-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备,
0744-运送或处理或提供光电元件用装置,
0747-产品涂层或封装用机器,
0747-涂层前表面预处理装置,
0747-涂层用机器、设备和沉积系统装置,
0747-表面涂层用设备,
0750-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备
0721-产品涂层或封装用机器;0735-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备;0736-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备;0742-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产 薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备;0744-半导体处理装置,尤其是用于在真空中处理半导体的;0744-半导体表面处理装置;0744-半导体表面气化装置,尤其是真空中的;0744-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备;0744-运送或处理或提供光电元件用装置;0747-产品涂层或封装用机器;0747-涂层前表面预处理装置;0747-涂层用机器、设备和沉积系统装置;0747-表面涂层用设备;0750-用于在真空中处理金属、有机和矿物衬底的机器和机器组件,尤其是用于使用化学和物理工艺生产薄光学、透明、太阳能技术和耐磨涂料,以及用于离子和等离子处理,包括用于生产上述涂料的材料气化设备 - 2021-02-23-2031-02-23
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