【NANOFLEX】商标详情
- NANOFLEX
- G1274512
- 已注册
- 普通商标
- 2015-11-19
0901 , 0910 0901-在化学领域里用于分析表征颗粒、以确定光的动态散射、以确定一个电压信号的稳定性的测量和分析装置的专用计算机程序,尤其是用于合成材料和纳米粒子的生产方面,包括在溶胶-凝胶过程中、在制药技术领域中、在纳米研磨领域中、在均相技术领域中、以及在纳米技术领域中使用的专用计算机程序,
0901-数据处理设备和计算机,用于分析以确定光的动态散射、用于各种涂料、用于抛光剂、陶瓷和最好的材料以及在纳米研磨领域的稳定性的精密测量和分析装置,
0901-用于测量和自动化控制 技术设备的专用计算机程序,尤其是用于研究和实验室设备,
0901-用于科学设备和仪器的专用计算机程序,尤其是用于研究和实验室设备,
0910-数据处理设备和计算机,用于分析以确定光的动态散射、用于各种涂料、用于抛光剂、陶瓷和最好的材料以及在纳米研磨领域的稳定性的精密测量和分析装置,
0910-用于测量和自动化控制技术的设备,尤其是用于研究和实验室设备,
0910-科学的精密测量装置,特别是用于研究和实验室设备
0901-在化学领域里用于分析表征颗粒、以确定光的动态散射、以确定一个电压信号的稳定性的测量和分析装置的专用计算机程序,尤其是用于合成材料和纳米粒子的生产方面,包括在溶胶-凝胶过程中、在制药技术领域中、在纳米研磨领域中、在均相技术领域中、以及在纳米技术领域中使用的专用计算机程序;0901-数据处理设备和计算机,用于分析以确定光的动态散射、用于各种涂料、用于抛光剂、陶瓷和最好的材料以及在纳米研磨领域的稳定性的精密测量和分析装置;0901-用于测量和自动化控制技术设备的专用计算机程序,尤其是用于研究和实验室设备;0901-用于科学设备和仪器的专用计算机程序,尤其是用于研究和实验室设备;0910-数据处理设备和计算机,用于分析以确定光的动态散射、用于各种涂料、用于抛光剂、陶瓷和最好的材料以及在纳米研磨领域的稳定性的精密测量和分析装置;0910-用于测量和自动化控制技术的设备,尤其是用于研究和实验室设备;0910-科学的精密测量装置,特别是用于研究和实验室设备 - 2015-05-27-2025-05-27
- Colloid Metrix GmbH
- 北莱茵-威斯特法伦梅尔布施************
- 国际局
2023-08-01 国际转让 | 申请核准审核
2023-07-16 国际转让 | 申请收文
2016-07-12 领土延伸 | 审查
2015-11-19 商标注册申请 | 申请收文
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- 2015-11-19
0901 , 0910 0901-在化学领域里用于分析表征颗粒、以确定光的动态散射、以确定一个电压信号的稳定性的测量和分析装置的专用计算机程序,尤其是用于合成材料和纳米粒子的生产方面,包括在溶胶-凝胶过 程中、在制药技术领域中、在纳米研磨领域中、在均相技术领域中、以及在纳米技术领域中使用的专用计算机程序,
0901-数据处理设备和计算机,用于分析以确定光的动态散射、用于各种涂料、用于抛光剂、陶瓷和最好的材料以及在纳米研磨领域的稳定性的精密测量和分析装置,
0901-用于测量和自动化控制技术设备的专用计算机程序,尤其是用于研究和实验室设备,
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0910-科学的精密测量装置,特别是用于研究和实验室设备
0901-在化学领域里用于分析表征颗粒、以确定光的动态散射、以确定一个电压信号的稳定性的测量和分析装置的专用计算机程序,尤其是用于合成材料和纳米粒子的生产方面,包括在溶胶-凝胶过程中、在制药技术领域中、在纳米研磨领域中、在均相技术领域中、以及在纳米技术领域中使用的专用计算机程序;0901-数据处理设备和计算机,用于分析以确定光的动态散射、用于各种涂料、用于抛光剂、陶瓷和最好的材料以及在纳米研磨领域的稳定性的精密测量和分析装置;0901-用于测量和自动化控制技术设备的专用计算机程序,尤其是用于研究和实验室设备;0901-用于科学设备和仪器的专用计算机程序,尤其是用于研究和实验室设备;0910-数据处理设备和计算机,用于分析以确定光的动态散射、用于各种涂料、用于抛光剂、陶瓷和 最好的材料以及在纳米研磨领域的稳定性的精密测量和分析装置;0910-用于测量和自动化控制技术的设备,尤其是用于研究和实验室设备;0910-科学的精密测量装置,特别是用于研究和实验室设备 - 2015-05-27-2025-05-27
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