【JMH】商标详情
- JMH
- 92004381
- 已初审
- 普通商标
- 2026-05-25
0102 , 0104 0102-碳化钨,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-耐酸化学物质,
0104-金属硬化剂,
0104-防霉化学制剂
0102-碳化钨;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质;0104-眼镜片用化学涂层;0104-耐酸化学物质;0104-金属硬化剂;0104-防霉化学制剂 - 1995
- 2026-08-13
- 深圳市建荣新能源科技有限公司
- 广东省深圳市************
- 武汉星泽知识产权代理事务所（特殊普通合伙）
2026-08-17 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2026-08-13 商标注册申请 | 排版初审公告
2026-06-22 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-05-25 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2026-08-13 第1995期 查看公告
- JMH
- 92004381
- 已初审
- 普通商标
- 2026-05-25
0102 , 0104 0102-碳化钨,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-耐酸化学物质,
0104-金属硬化剂,
0104-防霉化学制剂
0102-碳化钨;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质;0104-眼镜片用化学涂层;0104-耐酸化学物质;0104-金属硬化剂;0104-防霉化学制剂 - 1995
- 2026-08-13
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2026-08-13 商标注册申请 | 排版初审公告
2026-06-22 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-05-25 商标注册申请 | 申请收文
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