【1963】商标详情
- 1963
- 55640854
- 已注册
- 普通商标
- 2021-04-27
4209 , 4211 , 4212 , 4216 , 4217 , 4218 , 4220 , 4227 4209-撰写科技文稿,
4209-科学研究,
4211-化学研究,
4212-医学研究,
4216-造型（工业品外观设计）,
4217-建筑学服务,
4218-服装设计,
4220-手机软件设计,
4220-计算机编程,
4227-平面美术设计
4209-撰写科技文稿;4209-科学研究;4211-化学研究;4212-医学研究;4216-造型（工业品外观设计）;4217-建筑学服务;4218-服装设计;4220-手机软件设计;4220-计算机编程;4227-平面美术设计 - 1803
- 2022-08-13
- 1815
- 2022-11-14
- 2022-11-14-2032-11-13
- 四川外国语大学附属外国语学校
- 重庆市重庆市************
- 重庆西南知识产权运营集团有限公司
2022-12-06 驳回复审 | 打印注册证
2022-12-06 驳回复审 | 等待打印注册证
2022-04-02 驳回复审 | 实审裁文发文
2022-04-02 驳回复审 | 等待实审裁文发文
2022-02-14 驳回复审 | 评审分案
2021-10-14 驳回复审 | 申请收文
2021-10-12 驳回复审 | 申请收文
2021-09-15 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2021-09-15 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-05-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-05-20 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2021-04-27 商标注册申请 | 申请收文
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- 已注册
- 普通商标
- 2021-04-27
4209 , 4211 , 4212 , 4216 , 4217 , 4218 , 4220 , 4227 4209-撰写科技文稿,
4209-科学研究,
4211-化学研究,
4212-医学研究,
4216-造型（工业品外观设计）,
4217-建筑学服务,
4218-服装设计,
4220-手机软件设计,
4220-计算机编程,
4227-平面 美术设计
4209-撰写科技文稿;4209-科学研究;4211-化学研究;4212-医学研究;4216-造型（工业品外观设计）;4217-建筑学服务;4218-服装设计;4220-手机软件设计;4220-计算机编程;4227-平面美术设计 - 1803
- 2022-08-13
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