【HARDCUT】商标详情
- HARDCUT
- G1472173
- 待审中
- 普通商标
- 2019-06-13
4002 , 4007 4002-与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积,
4002-基于PVD技术的保护目的的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积（物理气相沉积）,
4002-根据第三方订单和规格进行的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积,
4007-与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积,
4007-基于PVD技术的保护目的的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积（物理气相沉积）,
4007-根据第三方订单和规格进行的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积
4002-与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积;4002-基于PVD技术的保护目的的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积（物理气相沉积）;4002-根据第三方订单和规格进行的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积;4007-与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积;4007-基于PVD技术的保护目的的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积（物理气相沉积）;4007-根据第三方订单和规格进行的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积 - IHI IONBOND AG
- 索洛图恩州奥尔滕************
- 国际局
2019-08-29 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2019-08-29 领土延伸 | 驳回电子发文
2019-06-13 领土延伸 | 申请收文
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- G1472173
- 待审中
- 普通商标
- 2019-06-13
4002 , 4007 4002-与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积,
4002-基于PVD技术的保护目的的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积（物理气相沉积）,
4002-根据第三方订单和规格进行的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积,
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4007-基于PVD技术的保护目的的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积（物理气相沉积）,
4007-根据第三方订单和规格进行的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积
4002-与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积;4002-基于PVD技术的保护目的的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积（物理气相沉积）;4002-根据第三方订单和规格进行的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积;4007-与金属和陶瓷合成物 的基质气相沉积;4007-基于PVD技术的保护目的的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积（物理气相沉积）;4007-根据第三方订单和规格进行的与金属和陶瓷合成物的基质气相沉积 - IHI IONBOND AG
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