【EXTOPE】商标详情
- EXTOPE
- G1377524
- 待审中
- 普通商标
- 2017-11-30
4220 4220-X射线荧光分析仪的设计、开发和编程,
4220-光谱仪用计算机软件的设计、开发和编程,
4220-提供用于X射线荧光仪的可下载图像处理软件和用于X射线荧光仪的操作系统软件,
4220-提供用于光谱仪的可下载图像处理软件和用于光谱仪的操作系统软件,
4220-提供用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件,
4220-提供用于电子显微镜的可下载图像处理软件和用于电子显微镜的操作系统软件,
4220-用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件的设计、开发和编程,
4220-电子显微镜用计算机软件的设计、开发和编程,
4220-计算机软件的设计、开发和编程
4220-X射线荧光分析仪的设计、开发和编程;4220-光谱仪用计算机软件的设计、开发和编程;4220-提供用于X射线荧光仪的可下载图像处理软件和用于X射线荧光仪的操作系统软件;4220-提供用于光谱仪的可下载图像处理软件和用于光谱仪的操作系统软件;4220-提供用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件;4220-提供用于电子显微镜的可下载图像处理软件和用于电子显微镜的操作系统软件;4220-用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件的设计、开发和编程;4220-电子显微镜用计算机软件的设计、开发和编程;4220-计算机软件的设计、开发和编程 - HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
- 东京都东京************
2017-11-30 领土延伸 | 申请收文
- EXTOPE
- G1377524
- 待审中
- 普通商标
- 2017-11-30
4220 4220-X射线荧光分析仪的设计、开发和编程,
4220-光谱仪用计算机软件的设计、开发和编程,
4220-提供用于X射线荧光仪的可下载图像处理软件和用于X射线荧光仪的操作系统软件,
4220-提供用于光谱仪的可下载图像处理软件和用于光谱仪的操作系统软件,
4220-提供用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件,
4220-提供用于电子显微镜的可下载图像处理软件和用于电子显微镜的操作系统软件,
4220-用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件的设计、开发和编程,
4220-电子显微镜用计算机软件的设计、开发和编程,
4220- 计算机软件的设计、开发和编程
4220-X射线荧光分析仪的设计、开发和编程;4220-光谱仪用计算机软件的设计、开发和编程;4220-提供用于X射线荧光仪的可下载图像处理软件和用于X射线荧光仪的操作系统软件;4220-提供用于光谱仪的可下载图像处理软件和用于光谱仪的操作系统软件;4220-提供用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件;4220-提供用于电子显微镜的可下载图像处理软件和用于电子显微镜的操作系统软件;4220-用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件的设计、开发和编程;4220-电子显微镜用计算机软件的设计、开发和编程;4220-计算机软件的设计、开发和编程 - HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
- 东京都东京************
2017-11-30 领土延伸 | 申请收文