【TCLC】商标详情
- TCLC
- 79716314
- 已注册
- 普通商标
- 2024-07-10
0101 , 0102 , 0104 , 0106 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用固态气体,
0102-无机酸,
0102-有机金属化合物,
0102-盐类（化学制剂）,
0102-金属氧化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产 中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）,
0106-非医用、非兽医用化学试剂
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业用固态气体;0102-无机酸;0102-有机金属化合物;0102-盐类（化学制剂）;0102-金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）;0106-非医用、非兽医用化学试剂 - 1942
- 2025-07-06
- 1954
- 2025-10-07
- 2025-10-07-2035-10-06
- 日商三化科技股份有限公司
- 山梨上野原 市************
- 北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）
2025-11-10 商标注册申请 | 注册证发文
2025-06-21 商标注册申请 | 等待驳回复审
2025-04-26 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-07-31 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-07-10 商标注册申请 | 申请收文
- TCLC
- 79716314
- 已注册
- 普通商标
- 2024-07-10
0101 , 0102 , 0104 , 0106 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用固态气体,
0102-无机酸,
0102-有机金属化合物,
0102-盐类（化学制剂）,
0102-金属氧化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）,
0106-非医用、非兽医用化学试剂
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业用固态气体;0102-无机酸;0102-有机金属化合物;0102-盐类（化学制剂）;0102-金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）;0106-非医用、非兽医用化学试剂 - 1942
- 2025-07-06
- 1954
- 2025-10-07
- 2025-10-07-2035-10-06
- 日商三化科技股份有限公司
- 山梨上野原市************
- 北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）
2025-11-10 商标注册申请 | 注册证发文
2025-06-21 商标注册申请 | 等待驳回复审
2025-04-26 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-07-31 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-07-10 商标注册申请 | 申请收文
