
【PRIMOD RIE】商标详情

- PRIMOD RIE
- 5917049
- 已注册
- 普通商标
- 2007-02-13
0742 , 0744 , 0753 0742-化学机械抛光设备,
0744-光学涂层设备,
0744-刻蚀处理设备,
0744-半导体晶片加工设备,
0744-半导体晶片加工设备的主机架,
0744-平板显示器生产设备,
0744-快速热处理设备(半导体制造设备),
0744-沉积处理设备,
0744-液晶显示器生产设备,
0744-电化学镀层设备(半导体制造设备),
0744-真空处理设备的主机架,
0744-真空镀层设备,
0753-真空处理设备
0742-化学机械抛光设备;0744-光学涂层设备;0744-刻蚀处理设备;0744-半导体晶片加工设备;0744-半导体晶片加工设备的主机架;0744-平板显示器生产设备;0744-快速热处理设备(半导体制造设备);0744-沉积处理设备;0744-液晶显示器生产设备;0744-电化学镀层设备(半导体制造设备);0744-真空处理设备的主机架;0744-真空镀层设备;0753-真空处理设备 - 1193
- 2009-11-27
- 1205
- 2010-02-28
- 2020-02-28-2030-02-27
- 中微半导体设备(上海)股份有限公司
- 上海市上海市************
- 北京集佳知识产权代理有限公司
2024-08-24 商标使用许可备案 | 核准通知书打印发送
2024-07-12 商标使用许可备案 | 申请收文
2020-02-18 商标续展 | 核准通知打印发送
2019-12-09 商标续展 | 申请收文
2019-05-14 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2019-03-06 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2019-03-05 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2010-03-18 商标注册申请 | 打印注册证
2007-10-23 商标注册申请 | 打印受理通知
2007-10-15 商标注册申请 | 等待补正回文
2007-10-15 商标注册申请 | 补正回文
2007-10-15 商标注册申请 | 补正收文
2007-08-22 商标注册申请 | 等待补正回文
2007-08-22 商标注册申请 | 补正回文
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- 2007-02-13
0742 , 0744 , 0753 0742-化学机械抛光设备,
0744-光学涂层设备,
0744-刻蚀处理设备,
0744-半导体晶片加工设备,
0744-半导体晶片加工设备的主机架,
0744-平板显示器生产设备,
0744-快速热处理设备(半导体制造设备),
0744-沉积处理设备,
0744-液晶显示器生产设备,
0744-电化学镀层设备(半导体制造设备),
0744-真空处理设备的主机架,
0744-真空镀层设备,
0753-真空处理设备
0742-化学机械抛光设备;0744-光学涂层设备;0744-刻蚀处理设备;0744-半导体晶片加工设备;0744-半导体晶片加工设备的主机架;0744-平板显示器生产设备;0744-快速热处理设备(半导体制造设备);0744-沉积处理设备;0744-液晶显示器生产设备;0744-电化学镀层设备(半导体制造设备);0744-真空处理设备的主机架;0744-真空镀层设备;0753-真空处理设备 - 1193
- 2009-11-27
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- 2010-02-28
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