【PRT】商标详情
- PRT
- 89641021
- 已注册
- 普通商标
- 2026-01-12
0744 0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体制造用光刻机,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-半导体芯片制造设备
0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造机;0744-半导体制造用光刻机;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-半导体芯片制造设备 - 1986
- 2026-06-06
- 1998
- 2026-09-07
- 2026-09-07-2036-09-06
- 卡尔蔡司半导体制造科技有限公司
- 巴登-符腾堡奥伯科亨************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2026-09-06 商标注册申请 | 排版注册公告
2026-06-08 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2026-06-06 商标注册申请 | 排版初审公告
2026-02-11 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-01-12 商标注册申请 | 申请收文
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- 89641021
- 已注册
- 普通商标
- 2026-01-12
0744 0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体制造用光刻机,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-半导体芯片制造设备
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- 2026-06-06
- 1998
- 2026-09-07
- 2026-09-07-2036-09-06
- 卡尔蔡司半导体制造科技有限公司
- 巴登-符腾堡奥伯科亨************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
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2026-02-11 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-01-12 商标注册申请 | 申请收文
