【WISPO】商标详情
- WISPO
- 81100036
- 已注册
- 普通商标
- 2024-09-25
0104 , 0106 , 0110 , 0113 0104-光致抗蚀剂,
0104-制清漆用工业化学品,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-平版印刷用化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-荧光粉,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0110-阻燃剂,
0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品
0104-光致抗蚀剂;0104-制清漆用工业化学品;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-平版印刷用化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-荧光粉;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0110-阻燃剂;0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品 - 1923
- 2025-02-13
- 1935
- 2025-05-14
- 2025-05-14-2035-05-13
- 维思普新材料(苏州)有限公司
- 江苏省苏州市************
- 广东红力量知识产权代理有限公司
2025-06-06 商标注册申请 | 注册证发文
2025-02-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-12-10 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-11-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-09-25 商标注册申请 | 申请收文
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- 已注册
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- 2024-09-25
0104 , 0106 , 0110 , 0113 0104-光致抗蚀剂,
0104-制清漆用工业化学品,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-平版印刷用化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-荧光粉,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0110-阻燃剂,
0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品
0104-光致抗蚀剂;0104-制清漆用工业化学品;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-平版印刷用化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-荧光粉;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0110-阻燃剂;0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品 - 1923
- 2025-02-13
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- 2025-05-14
- 2025-05-14-2035-05-13
- 维思普新材料(苏州)有限公司
- 江苏省苏州市************
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2025-06-06 商标注册申请 | 注册证发文
2025-02-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-12-10 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-11-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-09-25 商标注册申请 | 申请收文
