
【自在蓝】商标详情

- 自 在蓝
- 89349106
- 待审中
- 普通商标
- 2025-12-25
0102 , 0104 , 0107 , 0109 , 0113 0102-乳糖(原料),
0102-蛋白质(原料),
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-气体净化剂,
0107-摄影用显影剂,
0107-摄影用晒图纸,
0109-混合肥料,
0113-食品防腐用化学制剂,
0113-饮料工业用的过滤制剂
0102-乳糖(原料);0102-蛋白质(原料);0104-化学冷凝制剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-气体净化剂;0107-摄影用显影剂;0107-摄影用晒图纸;0109-混合肥料;0113-食品防腐用化学制剂;0113-饮料工业用的过滤制剂 - 姜丽
- 江苏省常州市************
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- 89349106
- 待审中
- 普通商标
- 2025-12-25
0102 , 0104 , 0107 , 0109 , 0113 0102-乳糖(原料),
0102-蛋白质(原料),
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-气体净化剂,
0107-摄影用显影剂,
0107-摄影用晒图纸,
0109-混合肥料,
0113-食品防腐用化学制剂,
0113-饮料工业用的过滤制剂
0102-乳糖(原料);0102-蛋白质(原料);0104-化学冷凝制剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-气体净化剂;0107-摄影用显影剂;0107-摄影用晒图纸;0109-混合肥料;0113-食品防腐用化学制剂;0113-饮料工业用的过滤制剂 - 姜丽
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